Spin Coater – Best Tools

Os Spin Coaters SC110-B são projetados para revestir uma variedade de substratos desde pequenos pedaços até wafers redondos de 8”.

Especificação:

Tamanho de substratos: Até wafers de 8” de diâmetro;

Velocidade máxima: 10.000 rpm;

Vácuo: Venturi (Amostras pesadas devem ser rotacionadas com velocidade menor – risco de serem arremessadas).

Microscópio eletrônico de varredura de alta resolução marca Jeol, modelo JSM 7800F, com canhão de emissão por campo do tipo Schottky – com emissor de ZrO / W. Detector de elétrons secundários LED / UED, nos modos de observação LDF / SEM / GB. Porta amostras adaptado para medidas em modo STEM. Aceleração de voltagem de 0,5 a 30 kV. Magnificação de 10 a 1.000.000x. Equipado com analisador de espectroscopia de energia dispersiva da marca Oxford, modelo X-Max 80, e beam blanker da marca Deben para nano fabricação por feixe de elétrons.

Especificação: Microscópio eletrônico de varredura de alta resolução, equipado com detector de elétrons secundários e de energia dispersiva de raios X, operando de 0,5 a 30 kV, com magnificação de 10 a 1.000.000x. Com resolução de borda final de 0,8 nm.

PLASMA ZEPTO VERSION 2

Dimensão da Câmara: 105 mm de diâmetro por 300mm de profundidade.

Material da Câmara: Quartzo

Volume da Câmara: aproximadamente 2,6 litros.

Fornecimento de gás: 2 canais para gases com ajuste individual (fluxímetro)

Gerador: 40KHz/100W.

Operação em atmosfera de oxigênio e/ou argônio.

O PlasmaPro 80 reactive ion etch (RIE) é um sistema compacto. O seu design permite carregamento e descarregamento rápido de wafer, ideal para pesquisa, prototipagem e produção de baixo volume. Ele permite processos de alto desempenho usando resfriamento de eletrodo otimizado e excelente controle de temperatura do substrato.

Especificação:

Tamanho de substratos: É possível corroer amostras de 8 mm x 8 mm até wafers de 100 mm de diâmetro;

Gases disponíveis: CF₄, SF₆, CHF₃, O₂, Ar;

Sistema dedicado à corrosão de Silício.

Deposição induzida por feixe de elétrons (E-beam evaporation)

Especificação:

Fonte: 5kV;

Corrente: máx. 600 mA;

Tamanho de amostra: ≤ 100 mm;

Câmara de deposição com capacidade de até 4 alvos;

Pressão de trabalho na ordem de 1 x 10^-7 Torr;

Cadinhos de Carbono vítreo de tamanho igual 2cc
Materiais disponíveis: Au, Cr e Al₂O₃

Microscópio ótico da marca Nikon, modelo Eclipse LV100ND, equipado com cinco lentes objetivas, do tipo free oil, de 5, 10, 20, 50 e 100x de ampliação, em sistema bright field ou dark field. Óticas para análises por reflexão e transmissão da luz. Filtros de colorização e bloqueio. Sistema de luz polarizada. Câmera da marca Nikon, modelo DS-Fi2, e software de captura e tratamento NIS-Elements v.4.50.

Especificação: Microscópio ótico de magnificação final de até 1000x, em sistema de luz refletida ou transmitida. Temos a disposição 4 unidades deste equipamento, nas mesmas especificações.

O sistema AT410 ALD fornece uma solução para filmes finos condutivos e conformados para preparação de amostras 3D, ao mesmo tempo em que fornece revestimentos 2D tradicionais que atualmente são cultivados usando sputtering/evaporação.

Possui gerador de ozônio.

Especificação:

Porta amostras com até 4” de diâmetro.

Processos com até 5 percursores (Óxidos, Elementais, Nitretos e Sulfetos)

Deposição de: óxido de alumínio, dióxido de silício e dióxido de titânio.

Alta qualidade para projetos de crescimento em pequenas amostras.

Sistema de dosagem preciso.

Microscópio de força atômica marca Bruker, modelo Dimension Icon, com tecnologia ScanAsyst de otimização de medidas. Opera em modos de contato, contato intermitente e não contato, viabilizando análises elétricas, magnéticas e de força, em geral, para diferentes materiais. É uma poderosa ferramenta na caracterização de rugosidade de superfície, diferenciação de fases, tamanho lateral e profundidade como, degrau e espessura de folhas e filmes.

Especificação: Microscópio de força atômica, com tecnologia ScanAsyst, para capturas mais rápidas e otimizadas.

Micro Writer ML3 (prototipagem Direta)

Uma máquina de fotolitografia de gravação direta para prototipagem rápida

Especificação:

Fonte: Laser de alta potência com espectro de 405 nm;

Tamanho de substratos: até wafers de 100 mm de diâmetro;

Resolução 1 µm

Microscópio ótico da marca Nikon, modelo Eclipse LV100ND, equipado com cinco lentes objetivas, do tipo free oil, de 5, 10, 20, 50 e 100x de ampliação, em sistema bright field ou dark field. Óticas para análises por reflexão e transmissão da luz. Filtros de colorização e bloqueio. Sistema de luz polarizada. Câmera da marca Nikon, modelo DS-Fi2, e software de captura e tratamento NIS-Elements v.4.50.

Especificação: Microscópio ótico de magnificação final de até 1000x, em sistema de luz refletida ou transmitida. Temos a disposição 4 unidades deste equipamento, nas mesmas especificações.

Microscópio eletrônico de varredura de bancada da marca Hitachi, modelo TM3000, equipado com semicondutor de alta sensibilidade para a detecção por elétrons retroespalhados nos modos de operação COMPO, Shadow 1, Shadow 2 e TOPO, a baixo vácuo.  Porta amostras dedicados para leituras de superfície e transversal. Aceleração de voltagem de 5 e 15kV. Magnificação de 15 a 30.000x. Possui sistema motorizado de movimentação do stage.

Especificação: Microscópio eletrônico de varredura de baixo vácuo, operando em 5 ou 15 kV, com magnificação de 15 a 30.000x, em baixo vácuo, possibilitando análises de materiais mais isolantes.

Microscópio invertido marca Olympus, modelo IX83, totalmente motorizado, integrado ao sistema VT-iSIM de super resolução de imagens e alta velocidade. Opera com um conjunto de três objetivas (UPLXAPO20X, UPLSAPO60XS e UPLAPO100XOHR). Iluminação Epi fluorescente de LED CoolLED’s pE-300white. Sistema de captura de imagens Hamamatsu ORCA-Fusion sCMOS, com resolução máxima de 2304 x 2304 (5.3 Megapixels) em uma velocidade máxima de 100 frames/segundo e tamanho de pixel de 6,5 µm X 6,5 µm. No campo de laser de estado sólido é equipado com quatro diferentes comprimentos de onda (L405P100, L488P150, L561P100 e L640P100).

Especificação: Microscópio invertido confocal de varredura a laser e fluorescência. Equipado com 4 lasers diferentes (405, 488, 561 e 640 nm). Com sistema automatizado de fatias, em Z, em escala nanométrica.

Microscópio ótico da marca Olympus, modelo BX51M, equipado com cinco lentes objetivas, do tipo free oil, de 5, 10, 20, 50 e 100x de ampliação, em sistema bright field ou dark field (para as lentes 10 e 20x). Entrega final de resolução em 1x ou 2x, chegando até 2000x de magnificação. Ótica para análises por reflexão da luz. Filtro de colorização amarelo. Sistema de luz polarizada. Câmera da marca Olympus, modelo SC30, e software de captura e tratamento Olympus Stream Essentials 2.1.

Especificação: Microscópio ótico de magnificação final de até 2000x, em sistema de luz refletida.

O difratometro de Raio-X permite analisar amostras do tipo pó, membranas, fibras e filmes finos, através da configuração Bragg-Bretano, GID e XRR. Possui mesa X-Y-Z e câmera acoplada para medidas de microdifração. O detector LYNXEYE XE-T permite a aquisição em 0D, 1D e 2D

Espectrômetro de massas de alta resolução e alta sensibilidade do tipo MALDI, com as fontes de ionização por ESI (Eletrospray Ionization) ou APCI (Atmospheric-pressure chemical ionization) com analisador Ion trap, o que permite obter fragmentações MSn. Aplicações: Identificação e caracterização de proteínas e peptídeos; Análise de compostos orgânicos;

Estufa utilizada para a incubação de meios de cultura inoculados e monitoramento de crescimento microbiano.

Osciloscópio Digital 59GHZ Keysight DSOZ592A, com baixo nível de ruído, 59 GHz de largura de banda em tempo real. Taxa de amostragem de 160 GSa/s e de 80 GSa/s em 1 canal e 2 canais respectivamente.